X射线荧光分析法以及原理信息

X射线荧光分析法:

能量散射X射线荧光光谱法（EDXRF）作为镀层厚度测量和材料分析的方法，可用来定量和定性分析样品的元素组成，也可用于镀层和镀层系统的厚度测量。无论是在实验室还是工业生产环境中，这一方法都能胜任，并还可以与现代化设备一起发挥作用。

X射线荧光分析fa作为一种常用测试方法，有着其突出的优势。它几乎可以测量所有工艺相关元素，并且工作时无损且不接触样品。测量时间一般在数秒钟内，很少多于一分钟。通常不需要复制的样品制备，即可进行快速测量。利用该方法，可以同时测量均质材料及镀层的厚度和化学成分。不仅如此，X射线荧光分析方法检测各种类型样品里的微量有害物质。

原理：

X射线荧光分析基于以下物理现象：样品材料中的原子由于受到初级X射线轰击，从而失去内层轨道中的某些电子。失去电子所留下的空穴会被外层电子来填补，在填补的过程中，会产生每个元素的特征X射线荧光。接收器探测到该荧光射线后，便能提供样品的材料组成等信息。